Selective deposition of a crystalline Si film by a chemical sputtering process in a high pressure hydrogen plasma
Selective deposition of a crystalline Si film by a chemical sputtering process in a high pressure hydrogen plasma
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在高压氢等离子体中通过化学溅射工艺选择性沉积晶体硅薄膜
DOI：
10.1063/1.4926849
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发表时间：
2015
影响因子：
3.2
通讯作者：
and Kiyoshi Yasutake
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Hiromasa Ohmi;Hiroaki Kakiuchi;and Kiyoshi Yasutake
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期刊：
影响因子：
--
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