Origin of Compressive Residual Stress in Alkoxide Derived PbTiO_3 Thin Film on Si Wafer
Origin of Compressive Residual Stress in Alkoxide Derived PbTiO_3 Thin Film on Si Wafer
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硅片上醇盐衍生的 PbTiO_3 薄膜残余压应力的来源
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M. Kosec
中科院分区：
文献类型：
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作者：
T. Ohno;B. Malic;H. Fukazawa;N. Wakiya;H. Suzuki;T. Matsuda;M. Kosec
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DOI：
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