Preparation of LiMn2O4 films by sputtering method
Preparation of LiMn2O4 films by sputtering method
复制标题
溅射法制备LiMn2O4薄膜
DOI：
--
复制
发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
T. Hosokawa
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
M. Isai;K. Nakamura;T. Hosokawa
登录
查看更多内容
影响因子：
2.7
作者：
M. Isai;Katsumasa Yamaguchi;Haruhiko Iyoda;H. Fujiyasu;Yasumitsu Ito
通讯作者：
Yasumitsu Ito
反应蒸发过程中锰蒸发物与氧气氛隔绝的新技术
影响因子：
1.5
作者：
M. Isai;T. Shimada;T. Matsui;H. Fujiyasu
通讯作者：
H. Fujiyasu
反应蒸发条件下锰沉积速率的优先顺序
影响因子：
1.5
作者：
M. Isai;H. Ichikawa;T. Shimada;K. Morimoto;H. Fujiyasu;Yasumitsu Ito
通讯作者：
Yasumitsu Ito
等离子体增强化学气相沉积制备锂锰氧化物薄膜正极
影响因子：
3.9
作者：
Ping Liu;J. Zhang;J. Turner;C. Tracy;D. Benson
通讯作者：
D. Benson
影响因子：
1.5
作者：
Y. Bandō;S. Horii;T. Takada
通讯作者：
T. Takada