Microscopic and electrical properties of Ge/Ge interfaces bonded by surface-activated wafer bonding technology

Microscopic and electrical properties of Ge/Ge interfaces bonded by surface-activated wafer bonding technology
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表面活化晶圆键合技术键合Ge/Ge界面的微观和电学特性

DOI:
--
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发表时间:
2011
期刊:
Jpn. J. Appl. Phys. 50巻
影响因子:
--
通讯作者:
Takehiko Wada
Takehiko Wada
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
Kentaroh Watanabe;Kensuke Wada;Hidehiro Kaneda;Kensuke Ide;Masahiro Kato;Takehiko Wada

文献摘要

参考文献

被引文献

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