Dynamics of Radical Cation of Poly(4-hydroxystyrene) and Its Copolymer for Extreme Ultraviolet and Electron Beam Resists
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聚(4-羟基苯乙烯)及其共聚物的自由基阳离子动力学用于极紫外和电子束抗蚀剂
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S. Tagawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Okamoto;M. Tanaka;T. Kozawa;S. Tagawa
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γ-辐照低温 2-甲基戊烷基质中苯三聚物自由基阳离子的形成
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
Chem.Phys.Lett. 399
影响因子：
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作者：
S.Seki et al.
通讯作者：
S.Seki et al.
用于后光学光刻的化学放大抗蚀剂中酸分布不均匀的潜在原因
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
Jpn. J. Appl. Phys.
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作者：
H. Yamamoto;T. Kozawa;A. Nakano;K. Okamoto;S. Tagawa;T. Ando;M. Sato;H. Komano
通讯作者：
H. Komano
化学放大极紫外光刻胶模型系统中的产酸效率
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
J. Vac. Sci. Technol. B
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作者：
T. Kozawa;S. Tagawa;H. Oizumi;I. Nishiyama
通讯作者：
I. Nishiyama
用于电子束光刻的化学放大抗蚀剂中的质子化位点
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发表时间：
2006
期刊：
J. Appl. Phys 45
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作者：
K. Natsuda;T. Kozawa;K. Okamoto and S. Tagawa
通讯作者：
K. Okamoto and S. Tagawa
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DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
Jpn. J. Appl. Phys.
影响因子：
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作者：
A. Nakano;T. Kozawa;K. Okamoto;S. Tagawa;T. Kai;T. Shimokawa
通讯作者：
T. Shimokawa