Study of Acid-Base Equilibrium in Chemically Amplified Resist
Study of Acid-Base Equilibrium in Chemically Amplified Resist
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化学放大型光刻胶酸碱平衡的研究
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
S. Tagawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Natsuda;T. Kozawa;K. Okamoto;S. Tagawa
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测量 193 nm 产酸量子效率的简单方法
DOI：
10.1117/12.350274
发表时间：
1999
期刊：
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影响因子：
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作者：
C. Szmanda;R. Kavanagh;J. F. Bohland;J. Cameron;P. Trefonas;Robert F. Blacksmith
通讯作者：
Robert F. Blacksmith
微电子技术：用于先进成像和封装的聚合物
DOI：
10.1021/bk-1995-0614
发表时间：
1995
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作者：
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通讯作者：
T. Nishikubo
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DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
J. Vac. Sci. Technol. B
影响因子：
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作者：
T. Kozawa;S. Tagawa;H. Oizumi;I. Nishiyama
通讯作者：
I. Nishiyama
影响因子：
3.5
作者：
A. Saeki;T. Kozawa;S. Tagawa;H. B. Cao
通讯作者：
H. B. Cao
碱添加剂对模型化学放大光刻胶反应扩散前沿的影响
影响因子：
1.4
作者：
B. Vogt;Shuhui Kang;V. Prabhu;Ashwin Rao;E. Lin;Wen;S. Satija;Karen L. Turnquest
通讯作者：
Karen L. Turnquest