Characterization of Cat-CVD Grown Si-C and Si-C-O Dielectric Films for ULSI Applications
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用于 ULSI 应用的 Cat-CVD 生长的 Si-C 和 Si-C-O 介电薄膜的表征
DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
H.Machida
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K.Takatsuji;H.Nakayama;M.Kawakami;Y.Makita;K.Murakami;N.Shimoyama;H.Machida
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