Dynamics of Radical Cations of Resist Model Compounds
Dynamics of Radical Cations of Resist Model Compounds
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抗蚀剂模型化合物的自由基阳离子动力学
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
S. Tagawa
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K. Okamoto;M. Tanaka;T. Kozawa;S. Tagawa
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脉冲辐射分解和激光光解对聚苯乙烯及相关聚合物的耐辐射性和敏感性的研究
DOI：
10.1016/1359-0197(86)90097-4
发表时间：
1986
期刊：
International Journal of Radiation Applications and Instrumentation. Part C. Radiation Physics and Chemistry
影响因子：
--
作者：
S. Tagawa
通讯作者：
S. Tagawa
用于电子束光刻的化学放大抗蚀剂中的质子化位点
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
J. Appl. Phys 45
影响因子：
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作者：
K. Natsuda;T. Kozawa;K. Okamoto and S. Tagawa
通讯作者：
K. Okamoto and S. Tagawa
用于后光学光刻的聚（4-羟基苯乙烯）基化学放大抗蚀剂的酸生成机制：聚（4-羟基苯乙烯）和聚（4-甲氧基苯乙烯）的酸产率和去质子化行为
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
Jpn. J. Appl. Phys.
影响因子：
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作者：
A. Nakano;T. Kozawa;K. Okamoto;S. Tagawa;T. Kai;T. Shimokawa
通讯作者：
T. Shimokawa
聚(4-羟基苯乙烯)及其共聚物的自由基阳离子动力学用于极紫外和电子束抗蚀剂
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
Jpn. J. Appl. Phys 48巻
影响因子：
--
作者：
K. Okamoto;M. Tanaka;T. Kozawa;S. Tagawa
通讯作者：
S. Tagawa
甲基丙烯酸酯主链聚合物化学放大电子束抗蚀剂模型体系中的敏化距离和产酸效率
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
J. Photopolym. Sci. Technol. 20
影响因子：
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作者：
T. Kozawa;S. Tagawa;T. Kai;and T. Shimokawa
通讯作者：
and T. Shimokawa