Imprint strategy for directed self-assembly of block copolymers
Imprint strategy for directed self-assembly of block copolymers
复制标题
嵌段共聚物定向自组装的印迹策略
DOI：
10.1016/j.mee.2017.02.003
复制
发表时间：
2017
影响因子：
2.3
通讯作者：
H.-C. Scheer
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
A. Mayer;D. Blensgens;J. Rond;C. Steinberg;M. Papenheim;S. Wang;J. Zajadacz;K. Zimmer;H.-C. Scheer
登录
查看更多内容
用于引导二嵌段共聚物的软印模面临的挑战
DOI：
10.1007/s00339-015-9409-4
发表时间：
2015
期刊：
Applied Physics A
影响因子：
--
作者：
C. Steinberg;M. Gubert;M. Papenheim;S. Wang;H.-C. Scheer;J. Zajadacz;K. Zimmer
通讯作者：
K. Zimmer
影响因子：
6
作者：
Borah, Dipu;Simao, Claudia D.;Morris, Michael A.
通讯作者：
Morris, Michael A.
纳米压印光刻与嵌段共聚物定向自组装相结合，用于制造位图介质的亚 20 nm 模板
影响因子：
3.5
作者：
Xiaoming Yang;S. Xiao;Wei Hu;J. Hwu;R. V. D. van de Veerdonk;K. Wago;Kim Y. Lee;D. Kuo
通讯作者：
D. Kuo
用于高保真嵌段共聚物纳米压印光刻的界面隔离氟烷基改性聚合物。
影响因子：
15
作者：
Vincent S. D. Voet;Teresa E. Pick;Sang;M. Moritz;Aaron T. Hammack;Jeffrey J Urban;D. Frank Ogletree;D. Olynick;Brett A. Helms
通讯作者：
Brett A. Helms
利用嵌段共聚物薄膜制作金属纳米点干法刻蚀掩模
影响因子：
2.4
作者：
G. Kang;Sangsig Kim;Yangdoo Kim;J. Park
通讯作者：
J. Park