Deprotonation mechanism of ionized poly(4-hydroxystyrene)
Deprotonation mechanism of ionized poly(4-hydroxystyrene)
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电离聚(4-羟基苯乙烯)的去质子化机理
DOI：
10.1117/12.2045881
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
and Kikuo Umegaki
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Toshihiko Susa;Kazumasa Okamoto ;Takuya Ishida ;Hiroki Yamamoto ;Takahiro Kozawa ;Ryoko Fujiyoshi;and Kikuo Umegaki
聚（4-羟基苯乙烯）（PHS）是抗蚀剂成分中的主链聚合物，也是极紫外（EUV）和电子束（EB）光刻的有前途的材料。经辐照的 PHS 的自由基阳离子发生有效的去质子化。羟基苯乙烯单元被纳入化学放大型光刻胶结构中作为质子源，其中反应机制尚未明确。在本研究中，通过使用脉冲放射分解技术来表征电离 PHS 的去质子化机制。研究了亚砜和高酸性酰胺等几种添加剂对去质子化动力学的影响，以阐明提高 PHS 自由基阳离子去质子化效率的原理。还研究了添加剂对薄膜酸产率的影响。
Poly(4-hydroxystyrene) (PHS), a backbone polymer in resist constituents is also a promising material for extreme ultraviolet (EUV) and electron beam (EB) lithography. Efficient deprotonation occurs from radical cations of irradiated PHS. A hydroxystyrene unit is incorporated in the chemically amplified resist structure as a proton source, in which reaction mechanism has not been well established. In this study, deprotonation mechanism of an ionized PHS was characterized by using pulse radiolysis techniques. The influence of several additives such as sulfoxides and amides with high acidity on the kinetics of the deprotonation was investigated to clarify the fundamentals of the enhancement of deprotonation efficiency from the PHS radical cation. Influence of the additives on the acid yield in thin film was also investigated.
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