Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching of Lead Zirconate Titanate Thin Films for MEMS Application
Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching of Lead Zirconate Titanate Thin Films for MEMS Application
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用于 MEMS 应用的锆钛酸铅薄膜的感应耦合等离子体反应离子蚀刻
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Jian
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Lu;Jian
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SF6 等离子体中压电 Pb(ZrxTi1−x)O3 的反应离子蚀刻
DOI：
10.1116/1.581984
发表时间：
1999
期刊：
影响因子：
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作者：
M. Bale;R. Palmer
通讯作者：
R. Palmer
HBr/Ar 等离子体中 Pb(Zr x Ti 1-x )O 3 薄膜的感应耦合等离子体蚀刻
DOI：
10.1016/s0167-9317(02)00550-6
发表时间：
2002
期刊：
影响因子：
--
作者：
C. Chung;Y. Byun;Hye In Kim
通讯作者：
Hye In Kim
大块锆钛酸铅的高深宽比等离子蚀刻
DOI：
10.1117/12.657751
发表时间：
2006
期刊：
SPIE MOEMS-MEMS
影响因子：
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作者：
Srimath S. Subasinghe;A. Goyal;S. Tadigadapa
通讯作者：
S. Tadigadapa
MEMS 微加工工艺产生的 Pb(Zr,Ti)O3 薄膜的铁电和压电性能下降
DOI：
10.1088/0960-1317/17/7/004
发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
--
作者：
T. Kobayashi;M. Ichiki;R. Kondou;K. Nakamura;R. Maeda
通讯作者：
R. Maeda
开发用于量产的PZT溅射方法
DOI：
10.1016/s0169-4332(00)00716-9
发表时间：
2001
期刊：
影响因子：
--
作者：
T. Masuda;Y. Miyaguchi;M. Tanimura;Y. Nishioka;K. Suu;N. Tani
通讯作者：
N. Tani