Observation and mitigation of RF-plasma-induced damage to III-nitrides grown by molecular beam epitaxy
Observation and mitigation of RF-plasma-induced damage to III-nitrides grown by molecular beam epitaxy
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射频等离子体对分子束外延生长的 III 族氮化物造成的损伤的观察和减轻
DOI：
10.1063/1.5097557
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发表时间：
2019
影响因子：
3.2
通讯作者：
Doolittle, W. Alan
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Clinton, Evan A.;Vadiee, Ehsan;Tellekamp, M. Brooks;Doolittle, W. Alan
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DOI：
--
发表时间：
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--
作者：
Joshua J. Williams;H. McFavilen;A. Fischer;D. Ding;Steven Young;E. Vadiee;F. Ponce;C. Arena;C. Honsberg;S. Goodnick
通讯作者：
S. Goodnick
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4
作者：
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通讯作者：
Doolittle, W. Alan
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通讯作者：
Bresnahan, Rich C.
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1.6
作者：
A. Azooz
通讯作者：
A. Azooz
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DOI：
--
发表时间：
1997
期刊：
影响因子：
--
作者：
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通讯作者：
K. Ebeling