Profile simulation model including ion reflection on feature surfaces during plasma etching
Profile simulation model including ion reflection on feature surfaces during plasma etching
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轮廓仿真模型，包括等离子蚀刻过程中特征表面上的离子反射
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
K.Ono
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S.Irie;Y.Osano;M.Mori;K.Eriguchi;K.Ono
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