First results of a Double-SOI pixel chip for X-ray imaging
First results of a Double-SOI pixel chip for X-ray imaging
复制标题
用于 X 射线成像的双 SOI 像素芯片的初步成果
DOI：
10.1016/j.nima.2016.04.022
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发表时间：
2016-09
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Yang Zhou
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Yunpeng Lu;Qun Ouyang;Yasuo Arai;Yi Liu;Zhigang Wu;Yang Zhou
针对低能X射线成像，设计并测试了一种基于双SOI工艺的原型芯片。对传感器和像素电路进行了表征。了解SOI技术中的长期串扰问题。用脉冲红外激光束验证了像素的工作。信号幅值反映的传感器损耗与I-V曲线反映的传感器损耗一致。s曲线拟合得到的sigma为153 e−，其中等效噪声电荷（ENC）贡献了113 e−。首次解决了SOI技术中的串扰问题，并通过一个计数型SOI像素实现了对低能辐射的定量探测。
Aiming at low energy X-ray imaging, a prototype chip based on Double-SOI process was designed and tested. The sensor and pixel circuit were characterized. The long lasting crosstalk issue in SOI technology was understood. The operation of pixel was verified with a pulsed infrared laser beam. The depletion of sensor revealed by signal amplitudes is consistent with the one revealed byI–Vcurve. An s-curve fitting resulted in a sigma of 153 e−among which equivalent noise charge (ENC) contributed 113 e−. It's the first time that the crosstalk issue in SOI technology was solved and a counting type SOI pixel demonstrated the detection of low energy radiation quantitatively.
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DOI：
10.1109/23.256656
发表时间：
1993-08
期刊：
--
影响因子：
--
作者：
B. Dierickx;D. Wouters;G. Willems;A. Alaerts;I. Debusschere;E. Simoen;J. Vlummens;H. Akimoto;C. Claeys;H. Maes;L. Hermans;E. Heijne;P. Jarron;F. Anghinolfi;Marnie L Campbell;F. Pengg;P. Aspell;L. Bosisio;E. Focardi;F. Forti;S. Kashigin;A. Mekkaoui;M. Habrard;D. Sauvage;P. Delpierre
通讯作者：
B. Dierickx;D. Wouters;G. Willems;A. Alaerts;I. Debusschere;E. Simoen;J. Vlummens;H. Akimoto;C. Claeys;H. Maes;L. Hermans;E. Heijne;P. Jarron;F. Anghinolfi;Marnie L Campbell;F. Pengg;P. Aspell;L. Bosisio;E. Focardi;F. Forti;S. Kashigin;A. Mekkaoui;M. Habrard;D. Sauvage;P. Delpierre
DOI：
10.1016/j.nima.2010.04.081
发表时间：
2011-04-21
影响因子：
1.4
作者：
Arai, Y.;Miyoshi, T.;Motoyoshi, M.
通讯作者：
Motoyoshi, M.
使用激光束测试细间距 SOI 像素探测器
影响因子：
3.6
作者：
Yi Liu;Yunpeng Lu;Xudong Ju;Qun Ou-Yang
通讯作者：
Qun Ou-Yang
影响因子：
1.6
作者：
Kameshima, Takashi;Ono, Shun;Hatsui, Takaki
通讯作者：
Hatsui, Takaki
DOI：
10.1016/j.nima.2005.04.035
发表时间：
2005-09
影响因子：
1.4
作者：
J. Marczewski;M. Caccia;K. Domanski;P. Grabiec;M. Grodner;B. Jaroszewicz;T. Klatka;A. Kociubiński;M. Koziel;W. Kucewicz;K. Kucharski;S. Kuta;H. Niemiec;M. Sapor;M. Szelezniak;D. Tomaszewski
通讯作者：
J. Marczewski;M. Caccia;K. Domanski;P. Grabiec;M. Grodner;B. Jaroszewicz;T. Klatka;A. Kociubiński;M. Koziel;W. Kucewicz;K. Kucharski;S. Kuta;H. Niemiec;M. Sapor;M. Szelezniak;D. Tomaszewski