Growth of Atomic Layer Deposited Ruthenium and Its Optical Properties at Short Wavelengths Using Ru(EtCp)2 and Oxygen
Growth of Atomic Layer Deposited Ruthenium and Its Optical Properties at Short Wavelengths Using Ru(EtCp)2 and Oxygen
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使用 Ru(EtCp)2 和氧气生长原子层沉积钌及其短波长光学性质
DOI：
10.3390/coatings8110413
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
3.4
通讯作者：
A. Szeghalmi
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
R. Müller;L. Ghazaryan;P. Schenk;S. Wolleb;V. Beladiya;N. Kaiser;A. Tünnermann;A. Szeghalmi
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发表时间：
2008
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影响因子：
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作者：
Leonid Belau
通讯作者：
Leonid Belau
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DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
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作者：
K. Kukli;M. Kemell;Esa Puukilainen;J. Aarik;A. Aidla;T. Sajavaara;M. Laitinen;M. Tallarida;J. Sundqvist;M. Ritala;M. Leskelä
通讯作者：
M. Leskelä
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DOI：
--
发表时间：
2005
期刊：
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影响因子：
--
作者：
S. Bajt;Z. Dai;E. Nelson;M. Wall;J. Alameda;N. Nguyen;S. Baker;J. Robinson;John S. Taylor;M. Clift;A. Aquila;E. Gullikson;N. Edwards
通讯作者：
N. Edwards
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DOI：
--
发表时间：
2007
期刊：
SPIE Advanced Lithography
影响因子：
--
作者：
S. Hill;I. Ermanoski;C. Tarrio;T. Lucatorto;T. Madey;S. Bajt;M. Fang;M. Chandhok
通讯作者：
M. Chandhok
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影响因子：
2.1
作者：
Seungmin Yeo;Sang;Ji;Soo‐Hyun Kim;Taehoon Cheon;B. Lim;Sunjung Kim
通讯作者：
Sunjung Kim