Real-time monitoring of surface passivation of crystalline silicon during growth of amorphous and epitaxial silicon layer
Real-time monitoring of surface passivation of crystalline silicon during growth of amorphous and epitaxial silicon layer
复制标题
非晶硅和外延硅层生长过程中晶体硅表面钝化的实时监测
DOI：
10.1063/5.0011563
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发表时间：
2020
影响因子：
3.2
通讯作者：
Shiratani Masaharu
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Nunomura Shota;Sakata Isao;Sakakita Hajime;Koga Kazunori;Shiratani Masaharu
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