Atomic-scale analysis of hydrogen-terminated Si(110) surfaces after wet cleaning
Atomic-scale analysis of hydrogen-terminated Si(110) surfaces after wet cleaning
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湿法清洗后氢封端 Si(110) 表面的原子尺度分析
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Katsuyoshi Endo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Kenta Arima;Jun Katoh;Katsuyoshi Endo
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期刊：
影响因子：
--
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