Metrology and characterization of SU-8 microstructures using autofluorescence emission
Metrology and characterization of SU-8 microstructures using autofluorescence emission
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使用自发荧光发射对 SU-8 微结构进行计量和表征
DOI：
10.1088/1361-6439/abe7c9
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发表时间：
2021
影响因子：
2.3
通讯作者：
Finan, John D
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Ramkumar, Pradeep Kumar;Rountree, Corey M;Saggere, Laxman;Finan, John D
使用负性SU-8光致抗蚀剂制造的复杂三维微结构用于许多生物医学和微流体应用中。扫描电子显微镜（SEM）和轮廓术是常用的尺寸表征的制造SU-8微结构，但不可行的非破坏性测量和表征的表面下的功能，如隐藏的微通道。在这项研究中，我们报告了一种独特的方法，用于非破坏性的尺寸表征的SU-8微结构使用发射的自发荧光辐射制造SU-8微结构产生的深度分布。自发荧光发射强度和使用SEM测量的微结构的厚度之间的关系被确定，并用于表征未知SU-8微结构的尺寸的基础上，他们的自发荧光强度。还测量了横向尺寸。这种关系被用来创建高度精确的深度剖面的不同类型的微观结构，包括隐藏的地下功能。这些结果通过与SEM的比较得到了验证。结果表明，一个可行的和准确的非破坏性的，低成本的，可重复使用的技术来表征SU-8的表面和亚表面的显微结构，使用自发荧光发射强度。
Sophisticated three-dimensional microstructures fabricated using the negative tone SU-8 photoresist are used in many biomedical and microfluidic applications. Scanning electron microscopy (SEM) and profilometry are commonly used metrological techniques for the dimensional characterization of fabricated SU-8 microstructures but are not viable for non-destructive measurements and characterization of subsurface features like hidden microchannels. In this study, we report a unique methodology for the non-destructive dimensional characterization of SU-8 microstructures using the emitted autofluorescence radiation from fabricated SU-8 microstructures to generate depth profiles. The relationship between autofluorescence emission intensities and the thicknesses of the microstructures measured using SEM was determined and used to characterize the dimensions of unknown SU-8 microstructures based on their autofluorescence intensities. Lateral dimensions were also measured. This relationship was used to create highly accurate depth profiles for different types of microstructures including hidden subsurface features. These results were validated by comparison with SEM. The results suggest a feasible and accurate non-destructive, low cost, metrological technique to characterize SU-8 surface and subsurface microstructures using autofluorescence emission intensities.
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影响因子：
12.6
作者：
Marie, R;Schmid, S;Dufva, M
通讯作者：
Dufva, M
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DOI：
--
发表时间：
2011
期刊：
影响因子：
--
作者：
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通讯作者：
D. D. Bang
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DOI：
--
发表时间：
2011
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C. Cao;S. Birtwell;Jonas Høgberg;H. Morgan;A. Wolff;D. D. Bang
通讯作者：
D. D. Bang