High Speed Deposition of YSZ Films by Laser Chemical Vapor Deposition
High Speed Deposition of YSZ Films by Laser Chemical Vapor Deposition
复制标题
激光化学气相沉积法高速沉积 YSZ 薄膜
DOI：
--
复制
发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Takashi Goto
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Teiichi Kimura;Takashi Goto
登录
查看更多内容
使用 β-二酮配合物低压金属有机化学气相沉积 ZrO2 和 Y2O3 薄膜生长的反应分析
影响因子：
1.8
作者：
Y. Akiyama;Tsuneyuki Sato;N. Imaishi
通讯作者：
N. Imaishi
金属有机化学气相沉积快速合成氧化钇部分稳定氧化锆薄膜
影响因子：
1.2
作者：
R. Tu;Teiichi Kimura;T. Goto
通讯作者：
T. Goto
影响因子：
1.5
作者：
Hidetoshi Miyazaki;Teiichi Kimura;T. Goto
通讯作者：
Hidetoshi Miyazaki;Teiichi Kimura;T. Goto
影响因子：
8.4
作者：
A. Asada;Hideo Yamamoto;M. Nakazawa;H. Osanai
通讯作者：
H. Osanai
多晶四方 Y2O3-ZrO2 具有高离子电导率
DOI：
10.1007/bf00726805
发表时间：
1984
期刊：
Journal of Materials Science Letters
影响因子：
--
作者：
N. Bonanos;R. Słotwiński;B. Steele;E. Butler
通讯作者：
E. Butler