Fabrication of 200 nm period hard X-ray phase gratings.
Fabrication of 200 nm period hard X-ray phase gratings.
复制标题
DOI：
10.1021/nl5009713
复制
发表时间：
2014-06-11
期刊：
影响因子：
10.8
通讯作者：
Wen H
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Miao H;Gomella AA;Chedid N;Chen L;Wen H
远场X射线光栅干涉测量在弱吸收样品成像中实现了非凡的相位灵敏度，只要光栅周期在X射线源的横向相干长度内。在这里，我们描述了一种具有成本效益的工艺来制造大面积，100纳米半间距硬X射线相位光栅的纵横比为32。纳米光栅适用于普通紧凑的X射线源具有低的空间相干性，如通过X射线衍射实验所证明的。
Far field X-ray grating interferometry achieves extraordinary phase sensitivity in imaging weakly absorbing samples, provided that the grating period is within the transverse coherence length of the X-ray source. Here we describe a cost-efficient process to fabricate large area, 100 nm half-pitch hard X-ray phase gratings with an aspect ratio of 32. The nanometric gratings are suitable for ordinary compact X-ray sources having low spatial coherence, as demonstrated by X-ray diffraction experiments.
登录
查看更多内容
影响因子：
3.5
作者：
Gorelick, Sergey;Guzenko, Vitaliy A.;David, Christian
通讯作者：
David, Christian
影响因子：
19.6
作者：
Pfeiffer, F;Weitkamp, T;David, C
通讯作者：
David, C
影响因子：
3.8
作者：
Modregger, P.;Pinzer, B. R.;Stampanoni, M.
通讯作者：
Stampanoni, M.
影响因子：
2.2
作者：
Green, Todd A.
通讯作者：
Green, Todd A.
DOI：
10.1088/0960-1317/22/10/105007
发表时间：
2012-10
期刊：
Journal of micromechanics and microengineering : structures, devices, and systems
影响因子：
--
作者：
Lynch SK;Liu C;Morgan NY;Xiao X;Gomella AA;Mazilu D;Bennett EE;Assoufid L;de Carlo F;Wen H
通讯作者：
Wen H