Thin membranes versus bulk substrates: investigation of proximity effects in focused electron beam-induced processing
Thin membranes versus bulk substrates: investigation of proximity effects in focused electron beam-induced processing
复制标题
薄膜与块状基板：聚焦电子束诱导加工中邻近效应的研究
DOI：
10.1088/0022-3727/45/22/225306
复制
发表时间：
2012
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
H. Marbach
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
M.-M. Walz;F. Vollnhals;F. Rietzler;M. Schirmer;A. Kunzmann;H.P. Steinrück;H. Marbach
聚焦电子束诱导处理技术的分辨率受到电子散射过程的限制。普遍认为，使用薄膜可以有效地改善这一点，因为它切断了电子相互作用的体积，从而减少了邻近效应。最近，我们证明了与预期相反，由于充电诱导的表面激活，在200 nm氮化硅薄膜上的邻近效应确实可以比在相应的块状衬底上更大。在这里，我们将这些研究扩展到电子束诱导的表面活化与其他衬底的邻近效应以及电子束诱导沉积随后的自催化生长。
The resolution of focused electron beam induced processing techniques is limited by electron scattering processes. General wisdom holds that using a membrane, this can be effectively improved due to a cutoff of the electron interaction volume and thus diminished proximity effects. Recently, we demonstrated that in contrast to the expectation, proximity effects can be indeed larger on a 200 nm silicon nitride membrane than on the respective bulk substrate, due to charging-induced surface activation. Herein, we expand these investigations on proximity effects in electron beam-induced surface activation to other substrates and to electron beam-induced deposition followed by autocatalytic growth.
登录
查看更多内容
Si(111)的逐步氧化和氮化研究：电子受激解吸、俄歇能谱和电子损失能谱
DOI：
--
发表时间：
1983
期刊：
影响因子：
--
作者：
M. Knotek;J. Houston
通讯作者：
J. Houston
超高分辨率聚焦电子束诱导加工：基材厚度的影响
影响因子：
3.5
作者：
W. V. Van Dorp;I. Lazić;A. Beyer;A. Gölzhäuser;J. Wagner;T. Hansen;C. W. Hagen
通讯作者：
C. W. Hagen
在 Si(001) 上的超薄 SiO(x) 薄膜上生成清洁的铁纳米晶体。
DOI：
--
发表时间：
2011
期刊：
Physical Chemistry, Chemical Physics - PCCP
影响因子：
--
作者：
Marie;F. Vollnhals;M. Schirmer;H. Steinrück;H. Marbach
通讯作者：
H. Marbach
Fe{sup } 与 Fe(CO){sub 5} 的气相离子分子电荷交换反应：观察更高位的亚稳态电子态
DOI：
--
发表时间：
1992
期刊：
影响因子：
--
作者：
J. Oriedo;D. Russell
通讯作者：
D. Russell
使用化学吸附乙烯作为前体分子在 Si(1 0 0) 上电子束诱导碳膜沉积
DOI：
--
发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
--
作者：
O. Guise;H. Marbach;J. Levy;J. Ahner;J. Yates
通讯作者：
J. Yates