Growth and properties of REBiO3 new buffer materials for coated conductors
Growth and properties of REBiO3 new buffer materials for coated conductors
复制标题
REBiO3新型包覆导体缓冲材料的生长及性能
DOI：
10.1016/j.physc.2008.05.271
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发表时间：
2008-09
影响因子：
1.7
通讯作者：
Zhang, H.
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Wang, W. T.;Cheng, C. H.;Pu, M. H.;Zhang, X.;Zhang, H.;Li, G.;Zhang, Y.;Zhao, Y.;Yang, Y.;Sun, R. P.;Zhang, H.
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影响因子：
8.6
作者：
P. Chaudhari;R. Koch;R. Laibowitz;T. Mcguire;R. Gambino
通讯作者：
P. Chaudhari;R. Koch;R. Laibowitz;T. Mcguire;R. Gambino
影响因子：
0.6
作者：
A. Zalesskiǐ;A. A. Frolov-A.;T. A. Khimich;A. Bush
通讯作者：
A. Zalesskiǐ;A. A. Frolov-A.;T. A. Khimich;A. Bush
影响因子：
4
作者：
M. Siegal;P. Clem;J. Dawley;R. J. Ong;M. Rodriguez;D. L. Overmyer
通讯作者：
M. Siegal;P. Clem;J. Dawley;R. J. Ong;M. Rodriguez;D. L. Overmyer
影响因子：
4
作者：
R. Simon;C. Platt;A. Lee;G. S. Lee;K. Daly;M. Wire;J. Luine;M. Urbanik
通讯作者：
R. Simon;C. Platt;A. Lee;G. S. Lee;K. Daly;M. Wire;J. Luine;M. Urbanik
影响因子：
3.6
作者：
S. Engel;K. Knoth;R. Hühne;L. Schultz;B. Holzapfel
通讯作者：
S. Engel;K. Knoth;R. Hühne;L. Schultz;B. Holzapfel