Optical waveguides in magneto-optical glasses fabricated by proton implantation
Optical waveguides in magneto-optical glasses fabricated by proton implantation
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通过质子注入制造的磁光玻璃中的光波导
DOI：
10.1016/j.optlastec.2016.05.008
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发表时间：
2016-11
影响因子：
5
通讯作者：
Wei Wei
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Liu Chun-Xiao;Li Yu-Wen;Zheng Rui-Lin;Fu Li-Li;Zhang Liao-Lin;Guo Hai-Tao;Zhou Zhi-Guang;Li Wei-Nan;Lin She-Bao;Wei Wei
用能量为550 keV、剂量为4.0× 10 ~（16）ions/cm ~ 2的质子注入，首次在磁光玻璃（掺Tb ~（3+）的硼硅酸铝玻璃）中制备了平面波导。在260 °C退火1.0 h后，用棱镜耦合法和端面耦合法测量了样品的暗模光谱和近场强度分布。利用SRIM 2010、RCM和FD-BPM分别对平面波导的损伤分布、折射率分布和光传输模式进行了数值计算。通过拉曼光谱和吸收光谱研究了注入对薄膜结构和光学性质的影响。这表明质子注入掺Tb ~（3+）铝硼硅玻璃波导是光纤通信和全光通信中波导隔离器的理想选择。
Planar waveguides in magneto-optical glasses (Tb3+-doped aluminum borosilicate glasses) have been produced by a 550-keV proton implantation at a dose of 4.0×1016ions/cm2for the first time to our knowledge. After annealing at 260 °C for 1.0 h, the dark-mode spectra and near-field intensity distributions are measured by the prism-coupling and end-face coupling methods. The damage profile, refractive index distribution and light propagation mode of the planar waveguide are numerically calculated by SRIM 2010, RCM and FD-BPM, respectively. The effects of implantation on the structural and optical properties are investigated by Raman and absorption spectra. It suggests that the proton-implanted Tb3+-doped aluminum borosilicate glass waveguide is a good candidate for a waveguide isolator in optical fiber communication and all-optical communication.
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影响因子：
1.3
作者：
Chun-Xiao Liu;Jun Xu;Lili Fu;R. Zheng;Zhiguang Zhou;Wei-nan Li;Haitao Guo;She-bao Lin; Wei
通讯作者：
Chun-Xiao Liu;Jun Xu;Lili Fu;R. Zheng;Zhiguang Zhou;Wei-nan Li;Haitao Guo;She-bao Lin; Wei
通过离子辐照定制 Bi2Se3 的非线性光学特性
影响因子：
4.6
作者：
Tan Y;Guo Z;Shang Z;Liu F;Böttger R;Zhou S;Shao J;Yu X;Zhang H;Chen F
通讯作者：
Chen F
DOI：
10.3390/ma5050985
发表时间：
2012-05-24
期刊：
Materials (Basel, Switzerland)
影响因子：
--
作者：
Mizumoto T;Shoji Y;Takei R
通讯作者：
Takei R
DOI：
--
发表时间：
2003
期刊：
--
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--
作者：
J. Ziegler
通讯作者：
J. Ziegler
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3.8
作者：
Huiying Hu;F. Lu;Xue-Lin Wang;Feng Chen;Ke Wang
通讯作者：
Huiying Hu;F. Lu;Xue-Lin Wang;Feng Chen;Ke Wang