Atom probe Tomography of fast-diffusing impurities and the effect of gettering in multicrystalline silicon
Atom probe Tomography of fast-diffusing impurities and the effect of gettering in multicrystalline silicon
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多晶硅中快速扩散杂质的原子探针断层扫描和吸杂效应
DOI：
10.1063/1.5049338
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发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Tweddle D
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Tweddle D
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原子探针断层扫描结合透射电子显微镜三维评价Si晶界偏析能力
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
Y. Ohno;K. Inoue;K. Kutsukake;M. Deura;T. Ohsawa;I. Yonenaga;H. Yoshida;S. Takeda;R. Taniguchi;H. Otsubo;S. R. Nishitani;N. Ebisawa;Y. Shimizu;H. Takamizawa;K. Inoue;Y. Nagai;Y. Ohno
通讯作者：
Y. Ohno
Si中小角度倾斜边界Cu析出的纳米机制
DOI：
10.1103/physrevb.91.235315
发表时间：
2015
期刊：
Physical Reviwe B
影响因子：
--
作者：
Y. Ohno;K. Inoue;K. Kutsukake;M. Deura;T. Ohsawa;I. Yonenaga;H. Yoshida;S. Takeda;R. Taniguchi;H. Otsubo;S. R. Nishitani;N. Ebisawa;Y. Shimizu;H. Takamizawa;K. Inoue;Y. Nagai
通讯作者：
Y. Nagai
磷扩散吸杂对 HPMC 硅片晶界复合的影响
DOI：
10.1016/j.egypro.2016.07.098
发表时间：
2016
期刊：
Energy Procedia
影响因子：
--
作者：
M. S. Wiig;K. Adamczyk;H. Haug;K. Ekstrøm;R. Søndenå
通讯作者：
R. Søndenå
影响因子：
4.7
作者：
C. Lotharukpong;D. Tweddle;Tomas L Martin;M. Wu;C. Grovenor;M. Moody;P. Wilshaw
通讯作者：
C. Lotharukpong;D. Tweddle;Tomas L Martin;M. Wu;C. Grovenor;M. Moody;P. Wilshaw
影响因子：
1.5
作者：
H. Sio;S. Phang;P. Zheng;Quanzhi Wang;Wei Chen;Hao Jin;D. Macdonald
通讯作者：
D. Macdonald