Extreme Ultraviolet Light Sources and Soft X-Ray Laser Based on Discharge Produced Plasma (INVITED)
Extreme Ultraviolet Light Sources and Soft X-Ray Laser Based on Discharge Produced Plasma (INVITED)
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基于放电产生等离子体的极紫外光源和软X射线激光器（邀请）
DOI：
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Masato Watanabe
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Eiki Hotta;Yusuke Sakai;Yasushi Hayashi;Gohta Niimi;Bin Huang;Qiushi Zhu;Inho Song;Masato Watanabe
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使用时间分辨等离子体成像和极紫外光谱法表征锡蒸气中的真空电弧放电。
DOI：
10.1103/physreve.71.026409
发表时间：
2005
期刊：
Physical review. E, Statistical, nonlinear, and soft matter physics
影响因子：
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作者：
E. Kieft;van der J.J.A.M. Mullen;Gmw Gerrit Kroesen;V. Y. Banine;Konstantin N Koshelev
通讯作者：
Konstantin N Koshelev
研究激光辅助放电产生的 Sn 等离子体 EUV 源的 Z 箍缩内爆等离子体的动力学
DOI：
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发表时间：
2011
期刊：
J.Phys.D.
影响因子：
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作者：
Q.Zhu;K.Horioka;E.Hotta;et.al.
通讯作者：
et.al.
Sn III 中振子强度、跃迁概率和能级辐射寿命的计算
DOI：
10.1088/0953-4075/43/16/165001
发表时间：
2010
期刊：
Journal of Physics B: Atomic, Molecular and Optical Physics
影响因子：
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作者：
C. Colón;A. Alonso
通讯作者：
A. Alonso
高重复率激光烧蚀放电 EUV 光源中激光参数对转换效率的依赖性
DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
Advanced Lithography
影响因子：
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作者：
Y. Teramoto;T. Yokoyama;H. Mizokoshi;Hiroto Sato;K. Hotta
通讯作者：
K. Hotta
用于 EUVL 源表征和优化的计量工具
DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
SPIE Advanced Lithography
影响因子：
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作者：
Max C. Schuermann;T. Missalla;K. Mann;S. Kranzusch;R. Klein;F. Scholze;G. Ulm;R. Lebert;L. Juschkin
通讯作者：
L. Juschkin