Improved alignment algorithm for electron beam lithography
Improved alignment algorithm for electron beam lithography
复制标题
改进的电子束光刻对准算法
DOI：
10.1116/1.4901015
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发表时间：
2014
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
Thoms S
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Thoms S
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用于扫描近场光学显微镜的悬臂阵列孔径探针的批量制造
影响因子：
2.3
作者：
Y. Zhang;K. Docherty;J. Weaver
通讯作者：
J. Weaver
DOI：
10.1117/12.2025865
发表时间：
2013
期刊：
Journal of Vacuum Science and Technology
影响因子：
--
作者：
Nuriel Amir;N. Shuall;Inna Tarshish;P. Leray
通讯作者：
P. Leray
电子承载光刻
影响因子：
2.3
作者：
S. Thoms
通讯作者：
S. Thoms
使用光学显微镜进行纳米级重叠和缝合计量
影响因子：
2.3
作者：
D. Macintyre;S. Thoms
通讯作者：
S. Thoms
影响因子：
2.3
作者：
Docherty, K. E.;Thorns, S.;Weaver, J. M. R.
通讯作者：
Weaver, J. M. R.