Advantages of Inductively Coupled Plasma -Assisted Sputtering for Preparation of Stoichiometric V0_2 films with Metal-Insulator Transition
Advantages of Inductively Coupled Plasma -Assisted Sputtering for Preparation of Stoichiometric V0_2 films with Metal-Insulator Transition
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电感耦合等离子体辅助溅射制备化学计量金属-绝缘体转变V0_2薄膜的优势
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Okimura
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Yusuke;Nihei;Yusuke;Sasakawa;Kunio;Okimura
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内线圈感应耦合等离子体辅助溅射铁磁 CoCrTa 薄膜沉积性能
DOI：
10.1116/1.1627770
发表时间：
2004
期刊：
Journal of Vacuum Science and Technology
影响因子：
--
作者：
K. Okimura;J. Oyanagi
通讯作者：
J. Oyanagi
高能离子和原子从磁控管源溅射和反射，用于沉积磁性薄膜
DOI：
10.1116/1.1943452
发表时间：
2005
期刊：
Journal of Vacuum Science and Technology
影响因子：
--
作者：
H. Matsui;H. Toyoda;H. Sugai
通讯作者：
H. Sugai
电感耦合等离子体辅助溅射高取向 CoCrTa 薄膜的生长
影响因子：
1.5
作者：
K. Okimura;K. Yamauchi
通讯作者：
K. Yamauchi
内置高频线圈式溅射装置的基本特性
DOI：
10.1116/1.575744
发表时间：
1989
期刊：
Journal of Vacuum Science and Technology
影响因子：
--
作者：
M. Yamashita
通讯作者：
M. Yamashita