Seamless Pattern stitched UV Nanoimprint Process For Large Area Nano Mold Fabrication
Seamless Pattern stitched UV Nanoimprint Process For Large Area Nano Mold Fabrication
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用于大面积纳米模具制造的无缝图案缝合 UV 纳米压印工艺
DOI：
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发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
J. Mizuno
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S. Kataza;K. Ishibashi;M. Kokubo;S. Sho ji;H. Goto;J. Mizuno
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影响因子：
2.3
作者：
Yuta Takano;J. Taniguchi
通讯作者：
J. Taniguchi
DOI：
10.1109/nems.2009.5068691
发表时间：
2009
期刊：
IEEE International Conference on Nano/Micro Engineered and Molecular Systems
影响因子：
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作者：
Y. Lee;Pin;Hung
通讯作者：
Hung
用于简单多光束干涉光刻的基于棱镜的激光干涉光刻系统
DOI：
10.1166/sam.2020.3650
发表时间：
2020
期刊：
影响因子：
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作者：
Jun Han Park;D. Yun;Yong;C. Gwak;B. Shin
通讯作者：
B. Shin
影响因子：
3.6
作者：
Rank, Andreas;Lang, Valentin;Lasagni, Andres Fabian
通讯作者：
Lasagni, Andres Fabian
使用紫外连续波激光实现图案多样性的双曝光激光干涉光刻
DOI：
10.6117/kmeps.2019.26.2.009
发表时间：
2019
期刊：
影响因子：
--
作者：
Yong;Jun Han Park;D. Yun;C. Gwak;B. Shin
通讯作者：
B. Shin