Lattice-matched epitaxial ternary PrxY2−xO3 films on SrO-passivated Si (001): Interface engineering and crystallography tailoring
Lattice-matched epitaxial ternary PrxY2−xO3 films on SrO-passivated Si (001): Interface engineering and crystallography tailoring
复制标题
SrO 钝化 Si (001) 上的晶格匹配外延三元 PrxY2âxO3 薄膜：界面工程和晶体学定制
DOI：
10.1063/1.4772939
复制
发表时间：
2013
影响因子：
4
通讯作者：
T. Schroeder
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
G. Niu;P. Zaumseil;M. A. Schubert;M. H. Zoellner;J. Dabrowski;T. Schroeder
登录
查看更多内容
影响因子：
4
作者：
J. Choi;J. Y. Lee;Y. Kim
通讯作者：
J. Choi;J. Y. Lee;Y. Kim
影响因子：
1.4
作者：
Md. Nurul Kabir Bhuiyan;Mariela Menghini;J. Locquet;J. Seo;C. Dieker;W. Jäger;C. Marchiori
通讯作者：
Md. Nurul Kabir Bhuiyan;Mariela Menghini;J. Locquet;J. Seo;C. Dieker;W. Jäger;C. Marchiori
一种用于完全晶格匹配 SOI 异质结构的新型工程氧化物缓冲方法
DOI：
--
发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
--
作者：
A. Giussani;P. Zaumseil;O. Seifarth;P. Storck;T. Schroeder
通讯作者：
T. Schroeder
Si(001) 上超薄外延 Pr2O3 薄膜的结构和厚度相关晶格参数
DOI：
--
发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
--
作者：
T. Schroeder;T.;J. Zegenhagen;C. Wenger;P. Zaumseil;H. Müssig
通讯作者：
H. Müssig
Si(001)基片上脉冲激光沉积Eu掺杂Y2O3发光薄膜的微观结构
DOI：
--
发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
--
作者：
S. S. Kim;J. Moon;Byung;K. Sohn;T. Kang;J. Je
通讯作者：
J. Je