Fabrication and characterization of a self-aligned gate stack for electronics applications
Fabrication and characterization of a self-aligned gate stack for electronics applications
复制标题
用于电子应用的自对准栅极堆叠的制造和表征
DOI:
10.1063/5.0062163
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发表时间:
2021
影响因子:
4
通讯作者:
Vogel, Eric M.
中科院分区:
文献类型:
--
作者:
Brummer, Amy C.;Mohabir, Amar T.;Aziz, Daniel;Filler, Michael A.;Vogel, Eric M.
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影响因子:
3.9
作者:
Farm, Elina;Kemell, Marianna;Leskela, Markku
通讯作者:
Leskela, Markku
影响因子:
9.5
作者:
R. Wojtecki;Jonathan H. Ma;I. Cordova;N. Arellano;K. Lionti;T. Magbitang;Thomas G. Pattison;Xiao Zhao;E. Delenia;N. Lanzillo;Alexander E. Hess;N. F. Nathel;Holt P. Bui;C. Rettner;G. Wallraff;P. Naulleau
通讯作者:
P. Naulleau
影响因子:
9.5
作者:
Seo, Seunggi;Yeo, Byung Chul;Kim, Hyungjun
通讯作者:
Kim, Hyungjun
影响因子:
2.3
作者:
E. Bassous;A. Lamberti
通讯作者:
A. Lamberti
影响因子:
1.3
作者:
Louette, Pierre;Bodino, Frederic;Pireaux, Jean-Jacques
通讯作者:
Pireaux, Jean-Jacques