Surface treatments of SiGe for scanning tunneling microscopy/spectroscopy and characterization of SiGe p-n junction
Surface treatments of SiGe for scanning tunneling microscopy/spectroscopy and characterization of SiGe p-n junction
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用于扫描隧道显微镜/光谱学的 SiGe 表面处理和 SiGe p-n 结的表征
DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
奥井登志子
中科院分区：
文献类型：
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作者：
M.Hayashibe;N.Suzuki;N.Nakata;A.Hattori;K.Konishi;M.Hashizume;奥井登志子
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