Effect of Sputtering Parameters on the Magnetic Properties of SmCo5/Cu Films
Effect of Sputtering Parameters on the Magnetic Properties of SmCo5/Cu Films
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溅射参数对SmCo5/Cu薄膜磁性能的影响
DOI：
10.1080/10426914.2012.700155
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发表时间：
2013-05
影响因子：
4.8
通讯作者：
Miao, Xiangshui
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Cheng, Weiming;Hu, Hao;Dai, Yifan;Cheng, Xiaomin;Miao, Xiangshui
SmCo_5薄膜具有巨大的单轴磁晶各向异性，是未来高密度磁记录材料的候选材料。本文采用射频磁控溅射技术在石英玻璃衬底上制备SmCo 5薄膜，并提出在SmCo 5薄膜上添加Cu底层以提高SmCo 5薄膜的磁性能。研究了溅射功率、薄膜厚度和退火温度对SmCo 5/Cu薄膜磁性能的影响。当溅射功率为60 W，膜厚为65 nm，退火温度为650°C时，SmCo 5/Cu薄膜的磁性能得到了显著提高。
SmCo5 film is an emerging candidate for the recording material of future high density magnetic recording because of its huge uniaxial magneto-crystalline anisotropy. In this article, SmCo5 films were fabricated by radio frequency (RF) magnetron sputtering system onto quartz glass substrate, and a Cu underlayer was proposed in order to improve magnetic properties of SmCo5 films. The dependences of sputtering power, thickness and annealing temperature on the magnetic properties of SmCo5/Cu films were studied. Using the optimal sputtering parameters of sputtering power of 60 w, thickness of 65 nm, and annealing temperature of 650°C, the coercivity of SmCo5/Cu films is improved significantly.
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影响因子：
5.4
作者：
Mukherjee, S. K.;Joshi, L.;Barhai, P. K.
通讯作者：
Barhai, P. K.
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作者：
Lifa Zhang;J. Hu;Jingsheng Chen;J. Ding
通讯作者：
Lifa Zhang;J. Hu;Jingsheng Chen;J. Ding
影响因子：
2.1
作者：
Y. Yuan;F. Chevrier;H. Gall;M. Rommeluére;Y. Dumond
通讯作者：
Y. Yuan;F. Chevrier;H. Gall;M. Rommeluére;Y. Dumond
DOI：
10.1088/0022-3727/37/1/l01
发表时间：
2004-01
期刊：
Journal of Physics D
影响因子：
--
作者：
J. Sayama;T. Asahi;K. Mizutani;T. Osaka
通讯作者：
J. Sayama;T. Asahi;K. Mizutani;T. Osaka
影响因子：
--
作者：
L. Zhang;Hu Jf;Jingsheng Chen;Jie Ding
通讯作者：
L. Zhang;Hu Jf;Jingsheng Chen;Jie Ding