Si(001)表面酸化過程のリアルタイム光電子分光観察:仕事関数と界面電子状態

Si(001)表面酸化過程のリアルタイム光電子分光観察:仕事関数と界面電子状態
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Si(001)表面氧化过程的实时光电子能谱观察:功函数和界面电子态

DOI:
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发表时间:
2006
期刊:
真空 (印刷中)
影响因子:
--
通讯作者:
小川修一
小川修一
中科院分区:
--
文献类型:
--
作者:
K.Fukutani;K.Niki;T.Ito;H.Tashiro;M.Matsumoto;M.Wilde;T.Okano;W.A.Dino;H.Kasai;S.Ogawa;S.Ogawa;高桑雄二;S.Ogawa et al.;S.Ogawa et al.;Y.Takakuwa et al.;高桑雄二;S.Ogawa;小川修一

文献摘要

参考文献

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