Si(001)表面酸化過程のリアルタイム光電子分光観察:仕事関数と界面電子状態
Si(001)表面酸化過程のリアルタイム光電子分光観察:仕事関数と界面電子状態
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Si(001)表面氧化过程的实时光电子能谱观察:功函数和界面电子态
DOI:
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发表时间:
2006
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
小川修一
中科院分区:
文献类型:
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作者:
K.Fukutani;K.Niki;T.Ito;H.Tashiro;M.Matsumoto;M.Wilde;T.Okano;W.A.Dino;H.Kasai;S.Ogawa;S.Ogawa;高桑雄二;S.Ogawa et al.;S.Ogawa et al.;Y.Takakuwa et al.;高桑雄二;S.Ogawa;小川修一
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影响因子:
8.6
作者:
T. Yamasaki;Koichi Kato;T. Uda
通讯作者:
T. Uda
影响因子:
6.7
作者:
Takakuwa, Y;Ishida, F;Kawawa, T
通讯作者:
Kawawa, T
影响因子:
3.7
作者:
Yasuda, T;Kumagai, N;Yamabe, K
通讯作者:
Yamabe, K
DOI:
10.1016/s0368-2048(98)00448-4
发表时间:
1999
影响因子:
1.9
作者:
Y. Takakuwa
通讯作者:
Y. Takakuwa
DOI:
10.1380/jsssj.23.536
发表时间:
2002
期刊:
Hyomen Kagaku
影响因子:
--
作者:
Y. Takakuwa
通讯作者:
Y. Takakuwa