In situ monitoring of Zn* and Mg* species during helicon-wave-excited-plasma sputtering epitaxy of ZnO and Mg_<0.06>Zn_<0.94>O films
In situ monitoring of Zn* and Mg* species during helicon-wave-excited-plasma sputtering epitaxy of ZnO and Mg_<0.06>Zn_<0.94>O films
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ZnO 和 Mg_<0.06>Zn_<0.94>O 薄膜螺旋波激发等离子体溅射外延过程中 Zn* 和 Mg* 物质的原位监测
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
S.F.Chichibu
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
T.Koyama;T.Ohmori;N.Shibata;T.;Onuma;S.F.Chichibu
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