Influence of NH3 annealing on the chemical states of HfO2/Al2O3 stacks studied by X-ray photoelectron spectroscopy
Influence of NH3 annealing on the chemical states of HfO2/Al2O3 stacks studied by X-ray photoelectron spectroscopy
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X射线光电子能谱研究NH3退火对HfO2/Al2O3叠层化学态的影响
DOI：
10.1016/j.vacuum.2015.11.018
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发表时间：
2016-02
期刊：
影响因子：
4
通讯作者：
Zhang David Wei
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
Liu Jian-Shuang;Lu Hong-Liang;Xu Sai-Sheng;Wang Peng-Fei;Ding Shi-Jin;Zhang David Wei
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影响因子：
2.1
作者：
G. Pant;P. Punchaipetch;M. J. Kim;R. Wallace;B. Gnade
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作者：
Yujuan Zhang;Yingze Yang;Yu-Hao Zhai;Ping-yu Zhang
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C. C. Yeo-C.;Moon Sig Joo;Byung Jin Cho;Sung Jin Whang
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作者：
D. Suh;Y. Cho;Sun Wook Kim;D. Ko;Yongshik Lee;M. Cho;Jungwoo Oh
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L. Forget;F. Wilwers;J. Delhalle;Z. Mekhalif
通讯作者：
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