Controlling impurity-induced disordering via mask strain for high-performance vertical-cavity surface-emitting lasers
Controlling impurity-induced disordering via mask strain for high-performance vertical-cavity surface-emitting lasers
复制标题
通过高性能垂直腔表面发射激光器的掩模应变控制杂质引起的无序
DOI:
--
复制
发表时间:
2018
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
Dallesasse, J. M.
中科院分区:
文献类型:
--
作者:
Su, P.;O’Brien, T.;Hsiao, F. C.;Dallesasse, J. M.
登录
查看更多内容
影响因子:
2.6
作者:
T. O’Brien;B. Kesler;Saoud Al Mulla;J. Dallesasse
通讯作者:
J. Dallesasse
DOI:
--
发表时间:
1998
期刊:
影响因子:
--
作者:
J. Holonyak
通讯作者:
J. Holonyak
影响因子:
2.6
作者:
Jin;L.;C. Chen;Y. Wu;Shi;Ying
通讯作者:
Ying
DOI:
--
发表时间:
1989
期刊:
影响因子:
--
作者:
J. Dallesasse;W. E. Plano;D. Nam;K. Hsieh;J. Baker;N. Holonyak;C. Kuo;R. Fletcher;T. Osentowski;M. Craford
通讯作者:
M. Craford
影响因子:
20.6
作者:
Dallesasse, John M.;Deppe, Dennis G.
通讯作者:
Deppe, Dennis G.