A character size optimization technique for throughput enhancement of character projection lithography
A character size optimization technique for throughput enhancement of character projection lithography
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用于提高字符投影光刻吞吐量的字符尺寸优化技术
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
et. al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Makoto Sugihara;et. al.
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用于提高电子束直写光刻系统吞吐量的单元库开发方法
DOI：
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发表时间：
2005
期刊：
Proc.IEEE International Symposium on System-on-Chip N/A
影响因子：
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作者：
M.Sugihara;T.Takata;K.Nakamura;R.Inanami;H.Hayashi;K.Kishimoto;T.Hasebe;Y.Kawano;Y.Matsunaga;K.Murakami K.Okumura
通讯作者：
K.Murakami K.Okumura
用于大规模生产 VLSI 器件的电子束光刻技术的最新进展
影响因子：
3.1
作者：
H. C. Pfeiffer
通讯作者：
H. C. Pfeiffer
提高字符投影设备吞吐量的技术映射技术
DOI：
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发表时间：
2006
期刊：
Proc.SPIE Volume:6151, Emerging Lithographic Technologies X Volume 6151
影响因子：
--
作者：
M.Sugihara;T.Takata;K.Nakamura;R.Inanami;H.Hayashi;K.Kishimoto;T.Hasebe;Y.Kawano;Y.Matsunaga;K.Murakami;K.Okumura
通讯作者：
K.Okumura
逻辑器件无掩模电子束直写产能提升策略
DOI：
10.1109/iedm.2000.904446
发表时间：
2000
期刊：
International Electron Devices Meeting 2000. Technical Digest. IEDM (Cat. No.00CH37138)
影响因子：
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作者：
R. Inanami;S. Magoshi;S. Kousai;M. Hmada;T. Takayanagi;K. Sugihara;K. Okumura;T. Kuroda
通讯作者：
T. Kuroda
DOI：
10.1116/1.569621
发表时间：
1978-01-01
期刊：
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY
影响因子：
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作者：
PFEIFFER, HC
通讯作者：
PFEIFFER, HC