Ferroelectric Properties of Epitaxial BiFeO_<3> Thin Films Deposited by Ion Beam Sputtering
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离子束溅射外延BiFeO_<3>薄膜的铁电性能
DOI：
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发表时间：
2010
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
et al.
中科院分区：
文献类型：
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作者：
S.Nakashima;H.Fujisawa;et al.
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