In-line metrology setup for periodic nanostructures based on sub-wavelength diffraction
In-line metrology setup for periodic nanostructures based on sub-wavelength diffraction
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基于亚波长衍射的周期性纳米结构在线计量装置
DOI：
10.1117/12.2191346
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发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
通讯作者：
C.M. Sotomayor Torres
中科院分区：
文献类型：
--
作者：
M. Kreuzer;J. G. Bresco;M. Sledzinska;C.M. Sotomayor Torres
从周期性结构的衍射光的分析被证明是一种通用的计量技术，适用于在线计量周期性纳米结构。我们表明，10纳米的周期性结构的变化可以跟踪光学通过亚波长衍射。采用电子束光刻技术制作了聚合物光栅。这些光栅具有6 μm的共同周期性，但线宽不同，范围从370到550 nm，步长为10 nm。所得到的衍射图案之间的比较显示出显着的强度差异，用于感测纳米级的周期性结构的偏差。
The analysis of diffracted light from periodic structures is shown to be a versatile metrology technique applicable to inline metrology for periodic nanostructures. We show that 10 nm changes in periodic structures can be traced optically by means of sub-wavelength diffraction. Polymer gratings were fabricated by electron beam lithography. The gratings have a common periodicity of 6 μm, but different line width, ranging from 370 to 550 nm in 10 nm steps. A comparison between the resulting diffraction patterns shows marked differences in intensity which are used to sense nanometre scale deviations in periodic structures.
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基于亚波长衍射的纳米制造加工质量控制衍射仪
DOI：
10.1117/12.2085924
发表时间：
2015
期刊：
影响因子：
--
作者：
M. Kreuzer;J. G. Bresco;M. Sledzinska;C.M. Sotomayor Torres
通讯作者：
C.M. Sotomayor Torres
角度分辨光学计量
DOI：
--
发表时间：
2008
期刊：
SPIE Advanced Lithography
影响因子：
--
作者：
R. Silver;B. Barnes;A. Heckert;R. Attota;R. Dixson;J. Jun
通讯作者：
J. Jun
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DOI：
--
发表时间：
2008
期刊：
SPIE Advanced Lithography
影响因子：
--
作者：
T. Kehoe;J. Bryner;V. Reboud;N. Kehagias;S. Landis;C. Gourgon;J. Vollmann;J. Dual;C. S. Sotomayor Torres
通讯作者：
C. S. Sotomayor Torres
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DOI：
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发表时间：
2007
期刊：
SPIE Advanced Lithography
影响因子：
--
作者：
S. Soulan;M. Besacier;T. Lévéder;P. Schiavone
通讯作者：
P. Schiavone
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DOI：
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发表时间：
2009
期刊：
影响因子：
--
作者：
T. Kehoe;V. Reboud;C. Torres
通讯作者：
C. Torres