Fabrication of SAW Devices Using SEM-Based Electro-Beam Lithography and Lift-Off Technique for Lab Use
Fabrication of SAW Devices Using SEM-Based Electro-Beam Lithography and Lift-Off Technique for Lab Use
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使用基于 SEM 的电子束光刻和实验室剥离技术制造 SAW 器件
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
M.Yamaguchi
中科院分区：
文献类型：
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作者：
H.Hatakeyama;T.Omori;K.Hashimoto;M.Yamaguchi
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Cu电极SAW反射特性及其在SAW IF器件中的应用
DOI：
10.1109/ultsym.2002.1193344
发表时间：
2002
期刊：
2002 IEEE Ultrasonics Symposium, 2002. Proceedings.
影响因子：
--
作者：
T. Omori;S. Nakagomi;H. Tanaka;H. Asano;Kunihiko Hashimoto;M. Yamaguchi
通讯作者：
M. Yamaguchi
GHz 范围步进型单向低损耗滤波器和 5GHz 范围传统 I.D.T.
DOI：
10.1109/ultsym.1986.198714
发表时间：
1986
期刊：
IEEE 1986 Ultrasonics Symposium
影响因子：
--
作者：
K. Yamanouchi;Z. H. Chen;T. Meguro
通讯作者：
T. Meguro
SU-8 作为电子束光刻光刻胶的表征
DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
SPIE Microtechnologies
影响因子：
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作者：
A. Nallani;S. Park;Jeong‐Bong Lee
通讯作者：
Jeong‐Bong Lee
使用电子束曝光的 SHF 系列表面声波叉指换能器
DOI：
10.1109/ultsym.1988.49352
发表时间：
1988
期刊：
IEEE 1988 Ultrasonics Symposium Proceedings.
影响因子：
--
作者：
K. Yamanouchi;Y. Cho;T. Meguro
通讯作者：
T. Meguro
采用纳米电极制造技术的 GHz 范围 SAW 器件
DOI：
10.1109/ultsym.1994.401622
发表时间：
1994
期刊：
1994 Proceedings of IEEE Ultrasonics Symposium
影响因子：
--
作者：
K. Yamanouchi
通讯作者：
K. Yamanouchi