MOCVD growth of epitaxial pyrochlore Bi_2Ti_2O_7 thin film
MOCVD growth of epitaxial pyrochlore Bi_2Ti_2O_7 thin film
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MOCVD外延生长烧绿石Bi_2Ti_2O_7薄膜
DOI：
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发表时间：
2003
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Hiroshi Funakubo
中科院分区：
文献类型：
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作者：
Muneyasu Suzuki;Takayuki Watanabe;Tadashi Takenaka;Hiroshi Funakubo
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影响因子：
4
作者：
HOU, SY;KWO, J;FORK, DK
通讯作者：
FORK, DK
烧绿石的结构-性质关系：Tl2Ru2O7-δ（δ=0.00 和 0.05）的低温结构
影响因子：
--
作者：
T. Takeda;R. Kanno;Y. Kawamoto;M. Takano;F. Izumi;A. Sleight;A. Hewat
通讯作者：
A. Hewat
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影响因子：
4
作者：
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通讯作者：
H. Ishiwara
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影响因子：
0.7
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通讯作者：
H. Funakubo
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影响因子：
3.2
作者：
D. Marvin;N. Ives;M. Leung
通讯作者：
M. Leung