近接積層InAs/GaAs量子ドットのGaAsスペーサ層膜厚と成長温度による広帯域偏光特性制御

近接積層InAs/GaAs量子ドットのGaAsスペーサ層膜厚と成長温度による広帯域偏光特性制御
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GaAs间隔层厚度和生长温度控制紧密堆叠的InAs/GaAs量子点的宽带偏振特性

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发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
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通讯作者:
喜多隆
喜多隆
中科院分区:
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文献类型:
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作者:
海津利行;田尻祐介;喜多隆

文献摘要

参考文献

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DOI: --
发表时间: 2002
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影响因子: --
作者:
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发表时间: 2004
期刊: Jpn.J.Appl.Phys 43
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P.Jayavel
通讯作者: P.Jayavel
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发表时间: 2004-03
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作者:
P. Jayavel;Hirokazu Tanaka;T. Kita;O. Wada;H. Ebe;M. Sugawara;J. Tatebayashi;Y. Arakawa;Y. Nakata;T. Akiyama
通讯作者: P. Jayavel;Hirokazu Tanaka;T. Kita;O. Wada;H. Ebe;M. Sugawara;J. Tatebayashi;Y. Arakawa;Y. Nakata;T. Akiyama
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