Formation of thin SiGe virtual substrates by ion implantation into Si substrate
Formation of thin SiGe virtual substrates by ion implantation into Si substrate
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通过离子注入硅衬底形成薄硅锗虚拟衬底
DOI：
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发表时间：
2004
期刊：
影响因子：
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通讯作者：
Y.Shiraki
中科院分区：
文献类型：
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作者：
K.Sawano;Y.Hirose;S.Koh;K.Nakagawa;T.Hattori;Y.Shiraki
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