AFM Lithography for Magnetic Nanostructures and Devices
AFM Lithography for Magnetic Nanostructures and Devices
复制标题
用于磁性纳米结构和器件的 AFM 光刻
DOI:
--
复制
发表时间:
2006
期刊:
影响因子:
--
通讯作者:
Yasushi Takemura
中科院分区:
文献类型:
--
作者:
Shinya Terada;Ichirou Oota;Kei Eguchi;Fumio Ueno;Yoko Amano;Yasushi Takemura
登录
查看更多内容
DOI:
--
发表时间:
2004
期刊:
IEEE Trans.Mag. 40
影响因子:
--
作者:
J.Shirakashi;Y.Takemura
通讯作者:
Y.Takemura
影响因子:
4
作者:
E. Snow;Doewon Park;P. Campbell
通讯作者:
P. Campbell
影响因子:
4
作者:
WANG, DW;TSAU, LM;CHOW, P
通讯作者:
CHOW, P
影响因子:
3.2
作者:
J. Shirakashi;Y. Takemura
通讯作者:
Y. Takemura
影响因子:
1.5
作者:
Y. Takemura;J. Shirakashi
通讯作者:
J. Shirakashi