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Microwave power source and capacitance meter
微波电源和电容表
基本信息
- 批准号：122052-1992
- 负责人：
- 金额：$ 1.17万
- 依托单位：
- 依托单位国家：加拿大
- 项目类别：Research Tools and Instruments - Category 1 (<$150,000)
- 财政年份：1991
- 资助国家：加拿大
- 起止时间：1991-01-01 至 1992-12-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
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项目成果
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介电聚合物和陶瓷的电学和电光性质，以及陷阱参数和电老化的表征技术
- 批准号：
3339-2000 - 财政年份：2001
- 资助金额：
$ 1.17万 - 项目类别：
Discovery Grants Program - Individual
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- 批准号：
3339-2000 - 财政年份：2000
- 资助金额：
$ 1.17万 - 项目类别：
Discovery Grants Program - Individual
Electrical and optoelectronic properties of semiconductors and insulators, plasma processing for depositon and etching of thin films, photovoltaic devices
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- 批准号：
3339-1995 - 财政年份：1998
- 资助金额：
$ 1.17万 - 项目类别：
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- 批准号：
3339-1995 - 财政年份：1997
- 资助金额：
$ 1.17万 - 项目类别：
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Electrical and optoelectronic properties of semiconductors and insulators, plasma processing for depositon and etching of thin films, photovoltaic devices
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- 批准号：
3339-1995 - 财政年份：1996
- 资助金额：
$ 1.17万 - 项目类别：
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Electrical and optoelectronic properties of semiconductors and insulators, plasma processing for depositon and etching of thin films, photovoltaic devices
半导体和绝缘体的电学和光电特性、薄膜沉积和蚀刻的等离子处理、光伏器件
- 批准号：
3339-1995 - 财政年份：1995
- 资助金额：
$ 1.17万 - 项目类别：
Discovery Grants Program - Individual
Electrical, optical and photoelectronic properties and applications of semiconductors and insulators, plasma processing for fabrication and etching of thin films
半导体和绝缘体的电学、光学和光电特性及应用，薄膜制造和蚀刻的等离子处理
- 批准号：
3339-1992 - 财政年份：1994
- 资助金额：
$ 1.17万 - 项目类别：
Discovery Grants Program - Individual
Electrical, optical and photoelectronic properties and applications of semiconductors and insulators, plasma processing for fabrication and etching of thin films
半导体和绝缘体的电学、光学和光电特性及应用，薄膜制造和蚀刻的等离子处理
- 批准号：
3339-1992 - 财政年份：1993
- 资助金额：
$ 1.17万 - 项目类别：
Discovery Grants Program - Individual
Electrical, optical and photoelectronic properties and applications of semiconductors and insulators, plasma processing for fabrication and etching of thin films
半导体和绝缘体的电学、光学和光电特性及应用，薄膜制造和蚀刻的等离子处理
- 批准号：
3339-1992 - 财政年份：1992
- 资助金额：
$ 1.17万 - 项目类别：
Discovery Grants Program - Individual
Electrical, optical and photoelectronic properties and applications of semiconductors and insulators, thin film fabrication and etching processes
半导体和绝缘体的电学、光学和光电特性及应用、薄膜制造和蚀刻工艺
- 批准号：
3339-1989 - 财政年份：1991
- 资助金额：
$ 1.17万 - 项目类别：
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