Specialized Engineering Research Equipment: Plasma ChemicalSystem For Dry Processing
Specialized Engineering Research Equipment: Plasma ChemicalSystem For Dry Processing
批准号:
7923976
负责人:
A. Neureuther
金额:
$5.63万
依托单位国家:
美国
项目类别:
Standard Grant
财政年份:
1980
资助国家:
美国
项目状态:
已结题
起止时间:
1980-02-15 至 1981-07-31
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会议论文
Investigation and Modeling of Processes For VLSI
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批准号:8106243
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项目类别:Continuing Grant
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资助金额:$41.47万
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财政年份:1981
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负责人:A. Neureuther
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依托单位:
The Limits of Optical Lithography
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批准号:7821528
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项目类别:Standard Grant
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资助金额:$17.9万
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财政年份:1979
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负责人:A. Neureuther
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依托单位:
Modeling and Optimization in Submicron Device Fabrication
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批准号:7714660
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项目类别:Continuing Grant
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资助金额:$24.0万
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财政年份:1977
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负责人:A. Neureuther
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依托单位:
Photoresist Modeling and Device Fabrication Applications
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批准号:7411771
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项目类别:Standard Grant
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资助金额:$6.5万
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财政年份:1975
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负责人:A. Neureuther
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依托单位:
国内基金
海外基金
Frontiers of Environmental Science & Engineering
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批准号:51224004
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项目类别:专项基金项目
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资助金额:20.0万元
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批准年份:2012
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负责人:朱建军
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依托单位:
Chinese Journal of Chemical Engineering
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批准号:21224004
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项目类别:专项基金项目
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资助金额:20.0万元
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批准年份:2012
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负责人:廖叶华
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依托单位:
Chinese Journal of Chemical Engineering
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批准号:21024805
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项目类别:专项基金项目
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资助金额:20.0万元
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批准年份:2010
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负责人:廖叶华
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依托单位: