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The Limits of Optical Lithography
光学光刻的局限性
基本信息
- 批准号：7821528
- 负责人：
- 金额：$ 17.9万
- 依托单位：
- 依托单位国家：美国
- 项目类别：Standard Grant
- 财政年份：1979
- 资助国家：美国
- 起止时间：1979-04-15 至 1982-06-30
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
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A. Neureuther其他文献
Understanding quencher mechanisms by considering photoacid-dissociation equilibrium in chemically amplified resists
通过考虑化学放大抗蚀剂中的光酸解离平衡来了解猝灭剂机制
- DOI：
10.1117/12.598949 - 发表时间：
2005 - 期刊：
- 影响因子：0
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T. Shimokawa
Quantitative phase retrieval with arbitrary pupil and illumination.
任意瞳孔和照明的定量相位检索。
- DOI：
- 发表时间：
2015 - 期刊：
- 影响因子：3.8
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L. Waller
Mechanistic Advantages of Organotin Molecular EUV Photoresists.
有机锡分子 EUV 光刻胶的机械优势。
- DOI：
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2022 - 期刊：
- 影响因子：9.5
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P. Naulleau
Pattern and probe-based aberration monitors for the human eye
用于人眼的基于图案和探头的像差监视器
- DOI：
10.1116/1.1615976 - 发表时间：
2003 - 期刊：
- 影响因子：1.4
- 作者：
G. Robins;A. Neureuther - 通讯作者：
A. Neureuther
Alignment Signals from Symmetrical Silicon Marks for Electron Beam Lithography
用于电子束光刻的对称硅标记的对准信号
- DOI：
10.1149/1.2119862 - 发表时间：
1983 - 期刊：
- 影响因子：3.9
- 作者：
Y. Lin;A. Neureuther;W. Oldham - 通讯作者：
W. Oldham
A. Neureuther的其他文献
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{{ truncateString('A. Neureuther', 18)}}的其他基金
Investigation and Modeling of Processes For VLSI
VLSI 流程的研究和建模
- 批准号：
8106243 - 财政年份：1981
- 资助金额：
$ 17.9万 - 项目类别：
Continuing Grant
Specialized Engineering Research Equipment: Plasma ChemicalSystem For Dry Processing
专业工程研究设备：干法等离子体化学系统
- 批准号：
7923976 - 财政年份：1980
- 资助金额：
$ 17.9万 - 项目类别：
Standard Grant
Modeling and Optimization in Submicron Device Fabrication
亚微米器件制造中的建模和优化
- 批准号：
7714660 - 财政年份：1977
- 资助金额：
$ 17.9万 - 项目类别：
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光刻胶建模和器件制造应用
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7411771 - 财政年份：1975
- 资助金额：
$ 17.9万 - 项目类别：
Standard Grant
相似海外基金
Coating and Development Station for High-Resolution Optical Lithography
高分辨率光学光刻镀膜和显影站
- 批准号：
517239846 - 财政年份：2023
- 资助金额：
$ 17.9万 - 项目类别：
Major Research Instrumentation
Flexible Optical Lithography for the SuperFab Facility
SuperFab 设施的灵活光学光刻
- 批准号：
EP/T024038/1 - 财政年份：2020
- 资助金额：
$ 17.9万 - 项目类别：
Research Grant
SBIR Phase I: Direct Optical Lithography of Functional Inorganic Nanomaterials
SBIR 第一阶段：功能无机纳米材料的直接光学光刻
- 批准号：
1938442 - 财政年份：2020
- 资助金额：
$ 17.9万 - 项目类别：
Standard Grant
Fundamental Insights into Direct Optical Lithography of Functional Inorganic Nanomaterials (DOLFIN)
功能无机纳米材料直接光学光刻的基本见解 (DOLFIN)
- 批准号：
1905290 - 财政年份：2019
- 资助金额：
$ 17.9万 - 项目类别：
Standard Grant
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纳米球光刻——一种任意图案斑片粒子的光学方法
- 批准号：
1905527 - 财政年份：2019
- 资助金额：
$ 17.9万 - 项目类别：
Standard Grant
LED & CMOS Structured Light Systems for Multi-modal Optical Lithography
引领
- 批准号：
2189676 - 财政年份：2019
- 资助金额：
$ 17.9万 - 项目类别：
Studentship
Direct Laser-Writer, maskless optical lithography system
直接激光刻录机、无掩模光学光刻系统
- 批准号：
401071323 - 财政年份：2018
- 资助金额：
$ 17.9万 - 项目类别：
Major Research Instrumentation
Materials systems for engineering optical and fluidic devices fabricated via three-dimensional nanoscale interference lithography
通过三维纳米级干涉光刻制造的工程光学和流体设备的材料系统
- 批准号：
418611-2013 - 财政年份：2017
- 资助金额：
$ 17.9万 - 项目类别：
Discovery Grants Program - Individual
Materials systems for engineering optical and fluidic devices fabricated via three-dimensional nanoscale interference lithography
通过三维纳米级干涉光刻制造的工程光学和流体设备的材料系统
- 批准号：
418611-2013 - 财政年份：2016
- 资助金额：
$ 17.9万 - 项目类别：
Discovery Grants Program - Individual
MRI: Acquisition of a Nanoscribe nano3d Printer/Optical Lithography System
MRI：购买 Nanoscribe nano3d 打印机/光学光刻系统
- 批准号：
1625186 - 财政年份：2016
- 资助金额：
$ 17.9万 - 项目类别：
Standard Grant