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The Limits of Optical Lithography

The Limits of Optical Lithography
光学光刻的局限性
批准号：
7821528
负责人：
A. Neureuther
金额：
$17.9万
依托单位：
University of California-Berkeley
依托单位国家：
美国
项目类别：
Standard Grant
财政年份：
1979
资助国家：
美国
项目状态：
已结题
起止时间：
1979-04-15 至 1982-06-30
来源：
https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=7821528&HistoricalAwards=false
关键词：
LimitsOpticalLithography

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Investigation and Modeling of Processes For VLSI
  • 批准号：
    8106243
  • 项目类别：
    Continuing Grant
  • 资助金额：
    $41.47万
  • 财政年份：
    1981
  • 负责人：
    A. Neureuther
  • 依托单位：
    University of California-Berkeley
Specialized Engineering Research Equipment: Plasma ChemicalSystem For Dry Processing
  • 批准号：
    7923976
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 资助金额：
    $5.63万
  • 财政年份：
    1980
  • 负责人：
    A. Neureuther
  • 依托单位：
    University of California-Berkeley
Modeling and Optimization in Submicron Device Fabrication
  • 批准号：
    7714660
  • 项目类别：
    Continuing Grant
  • 资助金额：
    $24.0万
  • 财政年份：
    1977
  • 负责人：
    A. Neureuther
  • 依托单位：
    University of California-Berkeley
Photoresist Modeling and Device Fabrication Applications
  • 批准号：
    7411771
  • 项目类别：
    Standard Grant
  • 资助金额：
    $6.5万
  • 财政年份：
    1975
  • 负责人：
    A. Neureuther
  • 依托单位：
    University of California-Berkeley
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