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Travel to Attend an International Conference on Plasma Physics; Nagoya, Japan; April 7-11, 1980

Travel to Attend an International Conference on Plasma Physics; Nagoya, Japan; April 7-11, 1980
前往参加等离子体物理学国际会议;
批准号:
8003218
负责人:
Francis Chen
金额:
$0.1万
依托单位:
依托单位国家:
美国
项目类别:
Standard Grant
财政年份:
1980
资助国家:
美国
项目状态:
已结题
起止时间:
1980-03-15 至 1980-12-31

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A Novel Plasma Tool for Large-Area Materials Processing
Physics of Charge Damage in High Density Plasma Etchers
High Density Sources for Plasma Processing
  • 批准号:
    9400849
  • 项目类别:
    Continuing Grant
  • 资助金额:
    $35.25万
  • 财政年份:
    1994
  • 负责人:
    Francis Chen
  • 依托单位:
REG: Industrial Applications of Plasma Science
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