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U.S.-Japan Joint Seminar: Theory and Application of Multiple Ionized Plasmas Produced By Laser and Particle Beams/Osaka, Japan/May 1982

U.S.-Japan Joint Seminar: Theory and Application of Multiple Ionized Plasmas Produced By Laser and Particle Beams/Osaka, Japan/May 1982
美日联合研讨会：激光和粒子束产生的多重电离等离子体的理论与应用/日本大阪/1982 年 5 月
批准号：
8112608
负责人：
Francis Chen
金额：
$1.55万
依托单位：
University of California-Los Angeles
依托单位国家：
美国
项目类别：
Standard Grant
财政年份：
1982
资助国家：
美国
项目状态：
已结题
起止时间：
1982-01-01 至 1982-12-31
来源：
https://www.nsf.gov/awardsearch/showAward?AWD_ID=8112608&HistoricalAwards=false
关键词：
U.S.JapanJointSeminarTheory

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A Novel Plasma Tool for Large-Area Materials Processing
Physics of Charge Damage in High Density Plasma Etchers
High Density Sources for Plasma Processing
  • 批准号：
    9400849
  • 项目类别：
    Continuing Grant
  • 资助金额：
    $35.25万
  • 财政年份：
    1994
  • 负责人：
    Francis Chen
  • 依托单位：
    University of California-Los Angeles
REG: Industrial Applications of Plasma Science
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