Development of GaInP/GaAs and A1GaInP/GaAs HEMT, Quantum- Well and MIS/MISFET Structures for High-Frequency and Optoelectronic Device Applications (Research Planning Grant)

开发用于高频和光电器件应用的 GaInP/GaAs 和 A1GaInP/GaAs HEMT、量子阱和 MIS/MISFET 结构(研究计划资助)

基本信息

  • 批准号:
    9110697
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.8万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    美国
  • 项目类别:
    Standard Grant
  • 财政年份:
    1991
  • 资助国家:
    美国
  • 起止时间:
    1991-08-15 至 1993-07-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

Increased interest in the millimeter region has stimulated the development of receiver technology for a wide range of applications including radio astronomy, atmospheric radiometry, plasma diagnostics, millimeter wave imaging, nondestructive testing, radar, and high- density, high-directivity communications and data transmission. To date, most of the flight- qualified production III-V compound semiconductor high-speed electronics have used GaAs- or AlGaAs/GaAs-based devices. Recently high electron mobility (HEMT) and heterojunction bipolar transistor (HBT) systems based on AlGaAs/InGaAs/GaAs, AllnAs/InGaAs, and InGaAs/InP have demonstrated excellent device performance at frequencies far exceeding those possible with the AlGaAs/GaAs system. In this Research Planning Grant award, both two- and three-terminal GaInP/GaAs and AlGaInP/GaAs devices will be fabricated and tested. The material will be grown by organo- metallic vapor phase epitaxy at the University of Utah and complete device characterization (dc to 60 GHz) will be carried out under this research. Device concepts to be implemented in this work will include discrete HEMT, insulated gate field effect transistors, and quantum well devices along with prototype varactor frequency multipliers and converters. After the completion of the planning research, optical control of microwave and millimeter wave devices of GaInP/GaAs and AlGaInP/GaAs heterosystems will also be investigated. The device concepts for high- frequency electronic and optoelectronic circuit applications will then be used for designing and fabricating a monolithic millimeter wave integrated circuit. In addition, two-dimensional array of high frequency devices of GaInP/GaAs and AlGaInP/GaAs will be fabricated to produce high output power (i.e., Watt level) at frequencies in the range of 94 to 147 GHz.
人们对毫米波段的兴趣增加, 刺激了接收器的发展 广泛应用的技术 包括射电天文学、大气 辐射测量,等离子体诊断,毫米波 成像、无损检测、雷达和高- 高密度、高方向性的通信和数据 传输 到目前为止,大部分的飞行- 合格生产Ⅲ-Ⅴ族化合物 半导体高速电子设备已经使用 GaAs或AlGaAs/GaAs基器件。 高电子迁移率(HEMT) 异质结双极晶体管(HBT)系统 基于AlGaAs/InGaAs/GaAs, AlnAs/InGaAs和InGaAs/InP具有 展示了出色的设备性能, 频率远远超过那些可能与 AlGaAs/GaAs系统 在这项研究规划奖,双方 二端和三端GaInP/GaAs, 将制备AlGaInP/GaAs器件, 测试. 该材料将通过有机- 金属汽相外延, 犹他州和完整的器件表征(直流 到60 GHz)将在此 research. 拟实施的设备概念 在这项工作中将包括分立HEMT, 绝缘栅场效应晶体管,以及 量子阱器件沿着原型 变容二极管倍频器和转换器。 规划研究完成后, 微波毫米波光控 GaInP/GaAs波导器件, AlGaInP/GaAs异质结也将在 研究了 高性能的设备概念- 频率电子与光电电路 应用程序将用于设计和 制作单片毫米波 集成电路 此外,二维 GaInP/GaAs高频器件阵列 和AlGaInP/GaAs将被制造成 产生高输出功率(即,瓦级), 频率范围为94至147 GHz。

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

Jennifer Hwu-Sadwick其他文献

Jennifer Hwu-Sadwick的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

{{ truncateString('Jennifer Hwu-Sadwick', 18)}}的其他基金

Presidential Faculty Fellows/Presidential Early Career Awards for Scientists and Engineers (PFF/PECASE)
总统教职研究员/总统科学家和工程师早期职业奖(PFF/PECASE)
  • 批准号:
    9629022
  • 财政年份:
    1997
  • 资助金额:
    $ 1.8万
  • 项目类别:
    Continuing Grant
CAREER: Rare Earth-Phosphide/III-V Semiconductor High-Speed, High-Temperature Electronics
职业:稀土磷化物/III-V 半导体高速、高温电子器件
  • 批准号:
    9502891
  • 财政年份:
    1995
  • 资助金额:
    $ 1.8万
  • 项目类别:
    Standard Grant
Characterization of Novel Rare Earth Phosphide Compounds Lattice-matched to InP.
与 InP 晶格匹配的新型稀土磷化物化合物的表征。
  • 批准号:
    9312173
  • 财政年份:
    1993
  • 资助金额:
    $ 1.8万
  • 项目类别:
    Standard Grant

相似国自然基金

基于应力平衡量子阱结构的超高效GaInP/GaAs(QWs)/InGaAs太阳电池研究
  • 批准号:
    62304243
  • 批准年份:
    2023
  • 资助金额:
    30 万元
  • 项目类别:
    青年科学基金项目
620nm激光用Ge/GeSi/(Al)GaInP多级异质结构的缺陷控制及工艺研究
  • 批准号:
    62374133
  • 批准年份:
    2023
  • 资助金额:
    48 万元
  • 项目类别:
    面上项目
高效GaInP/GaAs/InGaAs/Ge多结太阳能电池生长和键合制备关键技术研究
  • 批准号:
    61376081
  • 批准年份:
    2013
  • 资助金额:
    80.0 万元
  • 项目类别:
    面上项目
晶格异变GaInP/GaAs/InGaAsP/InGaAs 四结太阳电池研究
  • 批准号:
    61376065
  • 批准年份:
    2013
  • 资助金额:
    83.0 万元
  • 项目类别:
    面上项目
高效GaInP/GaAs双结叠层太阳能电池中载流子产生、复合和输运等细致光物理过程的综合研究
  • 批准号:
    11374247
  • 批准年份:
    2013
  • 资助金额:
    80.0 万元
  • 项目类别:
    面上项目
内嵌量子点三结(Al)GaInP/InGaAs/Ge太阳电池材料的MBE生长及器件相关问题研究
  • 批准号:
    61176128
  • 批准年份:
    2011
  • 资助金额:
    62.0 万元
  • 项目类别:
    面上项目
GaInP/GaAs/Ge三结太阳电池空间带电粒子辐照损伤机理研究
  • 批准号:
    11075043
  • 批准年份:
    2010
  • 资助金额:
    38.0 万元
  • 项目类别:
    面上项目
三结GaInP/GaAs/Ge量子阱太阳能电池的制备方法及相关基础研究
  • 批准号:
    60976047
  • 批准年份:
    2009
  • 资助金额:
    10.0 万元
  • 项目类别:
    面上项目
低强度650 nm GaInP/AlGaInP半导体激光促进中性粒细胞胞外杀菌网形成的机制研究
  • 批准号:
    60878061
  • 批准年份:
    2008
  • 资助金额:
    36.0 万元
  • 项目类别:
    面上项目
直接键合单片集成GaInP/GaAs/InGaAsP/InGaAs高效多结太阳电池研究
  • 批准号:
    60706014
  • 批准年份:
    2007
  • 资助金额:
    24.0 万元
  • 项目类别:
    青年科学基金项目

相似海外基金

UP-CONVERTED PHOTOLIMINESCENCE IN ORDERED GaInP/GaAs HETEROINTERFACE AND ITS PRESSURE EFFECTS
有序GaInP/GaAs异质界面中的上转换光斑及其压力效应
  • 批准号:
    12640312
  • 财政年份:
    2000
  • 资助金额:
    $ 1.8万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Liquid Phase Epitaxial Growth of GaInp Alloy Thick Layer and its Application
GaInp合金厚层的液相外延生长及其应用
  • 批准号:
    01550243
  • 财政年份:
    1989
  • 资助金额:
    $ 1.8万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
Vertical external-cavity surface-emitting laser based on a novel GaInP/AlGaInP grating waveguide for efficient high-power operation
基于新型 GaInP/AlGaInP 光栅波导的垂直外腔表面发射激光器,可实现高效高功率运行
  • 批准号:
    444786281
  • 财政年份:
  • 资助金额:
    $ 1.8万
  • 项目类别:
    Research Grants
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了